特許

J-GLOBAL ID：200903060089934336

シャンプー組成物

発明者： 宮川 律子 ,  秋山 文孝
出願人/特許権者： ライオン株式会社
代理人 (1件)： 池浦 敏明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-209694
公開番号（公開出願番号）：特開平11-035432
出願日： 1997年07月18日
公開日（公表日）： 1999年02月09日
要約：

【要約】【課題】 すすぎ時の毛髪の重量感やべたつき感を解消し、コンディショニング性にも優れた低刺激性シャンプー組成物を提供する。【解決手段】 (A)下記一般式(1)で表されるβ-アラニン系界面活性剤と(B)下記一般式(2)で表されるエーテルカルボン酸系界面活性剤と(C)カチオン性高分子化合物(カチオン化セルロース等)とを含有することを特徴とするシャンプー組成物。【化1】【化2】R2O(CH2CH2O)nCH2COOM2 (2)

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(1)で表されるβ-アラニン系界面活性剤と、(B)下記一般式(2)で表されるエーテルカルボン酸系界面活性剤と、(C)カチオン性高分子化合物とを必須成分として含有することを特徴とするシャンプー組成物。【化1】〔式中、R1は炭素数8〜18の飽和または不飽和炭化水素基、M1は水素原子、アルカリ金属、アンモニウム、または炭素数2〜3のヒドロキシアルキル基を有するアミン、Xは水素原子、または-CH2CH2COOM1基を示す(但し、M1は前記と同じ定義)。〕【化2】 R2O(CH2CH2O)nCH2COOM2 (2)(式中、R2は炭素数8〜18の直鎖または分岐鎖のアルキル基、アルケニル基、アルキルフェニル基、nは0〜20の数、M2は水素原子、アルカリ金属、アンモニウム、または炭素数2〜3のヒドロキシアルキル基を有するアミンを示す。)