特許
J-GLOBAL ID:200903060091525508

排ガス浄化用触媒

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大川 宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-004667
公開番号(公開出願番号):特開2009-165922
出願日: 2008年01月11日
公開日(公表日): 2009年07月30日
要約:
【課題】コーキングなどのHC被毒を抑制し、かつ圧損の上昇を抑制するとともに、低温域におけるHCの浄化活性を向上させる。【解決手段】上流部の所定範囲に形成された上流側触媒担持層2にはHCを吸着可能な多孔体を含まず、下流部の所定範囲に形成された下流側触媒担持層3に多孔体を含む。 低温域の排ガス中に含まれるHCは、上流側触媒担持層2を素通りして下流側触媒担持層3の多孔体に吸着するため、上流側におけるコーキングなどのHC被毒が抑制される。また上流側触媒担持層2にHCが吸着したとしても、多孔体を含まないためHCが脱離しやすく、脱離したHCは下流側触媒担持層3に存在する多孔体に吸着する。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
セル隔壁で区画された複数のセルをもつハニカム基材と、該セル隔壁に形成され酸化物担体に触媒金属を担持してなる触媒担持層と、よりなる排ガス浄化用触媒であって、 該酸化物担体には、排ガス中の炭化水素を吸着可能な細孔をもつ多孔体を含み、 該ハニカム基材の排ガス流入側端面から下流側へ所定範囲の上流部に形成された上流側触媒担持層の少なくとも表層部には該多孔体を含まず、該上流側触媒担持層の下流側端部から排ガス流出側端面までの下流部に形成された下流側触媒担持層に該多孔体を含むことを特徴とする排ガス浄化用触媒。
IPC (5件):
B01J 35/04 ,  B01D 53/86 ,  B01D 53/94 ,  B01J 29/74 ,  F01N 3/28
FI (8件):
B01J35/04 301L ,  B01D53/36 C ,  B01D53/36 104Z ,  B01J29/74 A ,  B01D53/36 104B ,  B01J35/04 A ,  F01N3/28 301P ,  F01N3/28 301Q
Fターム (63件):
3G091AA12 ,  3G091AA18 ,  3G091AB01 ,  3G091AB02 ,  3G091AB06 ,  3G091AB10 ,  3G091AB13 ,  3G091BA01 ,  3G091BA11 ,  3G091CA18 ,  3G091GA06 ,  3G091GA16 ,  3G091GA17 ,  3G091GA18 ,  3G091GB01W ,  3G091GB01X ,  3G091GB02Y ,  3G091GB03Y ,  3G091GB05W ,  3G091GB06W ,  3G091GB07W ,  3G091GB09X ,  3G091GB17X ,  4D048AA14 ,  4D048AA18 ,  4D048AB01 ,  4D048BA03X ,  4D048BA10X ,  4D048BA11X ,  4D048BA30X ,  4D048BA41X ,  4D048BB02 ,  4D048BB15 ,  4D048BB16 ,  4D048BB17 ,  4D048CC32 ,  4D048CC38 ,  4D048CC44 ,  4D048CD05 ,  4D048EA04 ,  4G169AA01 ,  4G169AA03 ,  4G169BA01B ,  4G169BA07B ,  4G169BA13B ,  4G169BB02A ,  4G169BB04A ,  4G169BC75B ,  4G169CA02 ,  4G169CA03 ,  4G169CA07 ,  4G169CA15 ,  4G169CA18 ,  4G169DA06 ,  4G169EA18 ,  4G169EB14X ,  4G169EB14Y ,  4G169EB16X ,  4G169EC28 ,  4G169EE08 ,  4G169FA03 ,  4G169FB30 ,  4G169ZA19B
引用特許:
出願人引用 (2件)

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