特許
J-GLOBAL ID：200903060101186154
現像装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
下田 容一郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-119916
公開番号（公開出願番号）：特開平6-333812
出願日： 1993年05月21日
公開日（公表日）： 1994年12月02日
要約：
【要約】【目的】 同一箇所で、基板の現像処理と洗浄処理を行う。【構成】 ベースプレート1上にケース2を固定し、このケース2内を隔壁3にて上部空間S1と下部空間S2に画成し、上部空間S1を現像空間、下部空間S2を洗浄空間としている。また、底面3を貫通して軸9がケース2内に伸び、この軸9はモータ等によって回転せしめられるとともに昇降動可能とされ、更に軸9の先端にはガラス基板W等を載置する円板状の現像台10が固着されている。
請求項（抜粋）：
ケース内に隔壁によって上部空間及び下部空間が画成され、これら上部空間及び下部空間の一方は現像空間、他方は洗浄空間とされ、また前記ケース内には表面にホトレジスト層を設けた基板を載置する現像台が設けられ、更にこの現像台は回転可能且つ昇降可能とされ、上昇位置で前記上部空間に臨み下降位置で前記下部空間に臨むことを特徴とする現像装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/30 501
