特許
J-GLOBAL ID：200903060109037816
放射線感応性樹脂組成物及びその膜、パターン形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 幸男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-050460
公開番号（公開出願番号）：特開平8-220765
出願日： 1995年02月15日
公開日（公表日）： 1996年08月30日
要約：
【要約】【目的】 被加工物を高温下に晒すことなく、また厚膜状に形成されてもクラックを生じることなく酸化シリコン膜を形成でき、しかもそれ自体が放射線に対して感応性を示す新規な樹脂組成物を提供する。【構成】 ポリ(ジ-t-ブトキシシロキサン)190g、酸発生剤として、トリフェニルスルホニウムトリフレート8.25g(0.02mol)を、溶剤であるメチルイソブチルケトン237g、高沸点溶剤であるジエチレングリコール26gに溶解し、0.2μm孔メンブレンフィルターで濾過し、放射線感応性樹脂組成物を調製する。
請求項（抜粋）：
アルコキシル基を有するポリ(シロキサン)誘導体であるポリ(アルコキシシロキサン)と、露光によって酸を発生する酸発生剤と、露光後に加熱を受けたときに蒸発しない高沸点溶剤とを含む放射線感応性樹脂組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/075 511
, G03F 7/004 503
, H01L 21/027
G03F 7/075 511
, G03F 7/004 503
, H01L 21/30 502 R
