特許

J-GLOBAL ID：200903060110374770

光回折パターン形成体

発明者： 田島 真治 ,  吉田 宏治
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 細井 勇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-287567
公開番号（公開出願番号）：特開平10-116016
出願日： 1996年10月09日
公開日（公表日）： 1998年05月06日
要約：

【要約】【課題】金属酸化物の薄膜からなる透明反射層3と、金属薄膜からなる金属反射層4とを光回折パターン形成層2に順次積層してなる層構成を有する光回折パターン形成体1において、金属反射層4の金属光沢が経時的に失われてしまわないようにする。【解決手段】光回折パターンの干渉縞が表面レリーフとして形成された光回折パターン形成層2のレリーフ面2aに、金属酸化物の薄膜からなる透明反射層3と、金属薄膜からなる金属反射層4とを光回折パターン形成層2に順次積層してなる層構成を有する光回折パターン形成体1であって、透明反射層3を形成する金属酸化物中の金属よりもイオン化エネルギーが大きい金属を用いて金属反射層4を形成する。

請求項（抜粋）：

光回折パターンの干渉縞が表面レリーフとして形成された光回折パターン形成層のレリーフ面に、透明反射層と金属反射層とを順次積層してなる光回折パターン形成体において、金属酸化物の薄膜により透明反射層を形成するとともに、当該金属酸化物中の金属よりもイオン化エネルギーが大きい金属を用いて金属反射層を形成してなることを特徴とする光回折パターン形成体。

IPC (4件)：

G03H 1/18 ,  B32B 15/08 ,  B42D 15/10 501 ,  B44C 1/17

FI (4件)：

G03H 1/18 ,  B32B 15/08 H ,  B42D 15/10 501 G ,  B44C 1/17 H

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 光回折パターン記録体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-300891   出願人：大日本印刷株式会社