特許
J-GLOBAL ID：200903060114511984
金属酸化物およびこれを用いた薄膜形成用ターゲット材の製法、金属酸化物薄膜形成用ターゲット材および金属酸化物薄膜の形成法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
小谷 悦司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-277492
公開番号（公開出願番号）：特開2000-007333
出願日： 1998年09月30日
公開日（公表日）： 2000年01月11日
要約：
【要約】【課題】 V組成制御性が良好で且つ粒子の形状制御が容易な金属酸化物の製法を開発すると共に、レーザー堆積法によって適正組成の金属酸化物薄膜を効率よく製造することのできるターゲット材とその製法、更には金属酸化物薄膜を得る方法を提供すること。【解決手段】 原料金属と有機キレート形成剤を所定の金属組成となる様に混合し、澄明な有機金属キレート錯体水溶液を調製した後、該水溶液を噴霧乾燥することによって得たアモルファスな有機金属キレート錯体を含む粉末を焼成して金属酸化物を製造する。或いは上記錯体を含む粉末をタブレット状に成形したターゲット材を用いて金属酸化物薄膜を形成する。
請求項（抜粋）：
原料として、アモルファスな有機金属キレート錯体を含む粉末を使用することを特徴とする金属酸化物の製造方法。
IPC (3件)：
C01G 1/00
, C01B 3/00 ZAA
, C23C 14/28
C01G 1/00 B
, C01G 1/00 S
, C01B 3/00 ZAA
, C23C 14/28
