ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：萩野平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-254512
公開番号（公開出願番号）：特開2001-083707
出願日： 1999年09月08日
公開日（公表日）： 2001年03月30日
要約：

【要約】【課題】経時保存安定性に優れ、更に現像の際の現像欠陥発生の問題を解消した遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、特定の構造の繰り返し単位と主鎖に脂環式環を有する特定の構造の繰り返し単位とを有し、かつ酸の作用により分解する基を有する重合体、及び、酢酸ブチル及びプロピレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレートの群から選択される少なくとも1種と、乳酸エチル及びプロピレングリコールモノアルキルエーテルの群から選択される少なくとも1種とを含有する混合溶剤を含有する遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)下記一般式(Ia)及び一般式(Ib)で表される繰り返し単位の群から選択される少なくとも1種と下記一般式(II)で表される繰り返し単位とを有し、かつ酸の作用により分解する基を有する重合体、及び(C)酢酸ブチル及びプロピレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレートの群から選択される少なくとも1種と、乳酸エチル及びプロピレングリコールモノアルキルエーテルの群から選択される少なくとも1種とを含有する混合溶剤を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式(Ia)中:R1、R2は、各々独立に、水素原子、シアノ基、水酸基、-COOH、-COOR5、-CO-NH-R6、-CO-NH-SO2-R6、置換されていてもよい、アルキル基、アルコキシ基あるいは環状炭化水素基、又は下記-Y基を表す。Xは、酸素原子、硫黄原子、-NH-、-NHSO2-又は-NHSO2NH-を表す。ここで、R5は、置換基を有していてもよい、アルキル基、環状炭化水素基又は下記-Y基を表す。R6は、置換基を有していてもよい、アルキル基又は環状炭化水素基を表す。Aは単結合又は2価の連結基を表す。-Y基;【化2】(-Y基中、R21〜R30は、各々独立に、水素原子又は置換基を有していてもよいアルキル基を表す。a,bは1又は2を表す。)式(Ib)中:Z2は、-O-又は-N(R3)-を表す。ここでR3は、水素原子、水酸基又は-OSO2-R4を表す。R4は、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基又は樟脳残基を表す。式(II)中:R11,R12は、各々独立に、水素原子、シアノ基、ハロゲン原子、又は置換基を有していてもよいアルキル基を表す。Zは、結合した2つの炭素原子(C-C)を含み、置換基を有していてもよい脂環式構造を形成するための原子団を表す。

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , H01L 21/30 502 R

Fターム (22件)：

2H025AA00 , 2H025AA04 , 2H025AB15 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB06 , 2H025CB10 , 2H025CB41 , 2H025CB42 , 2H025CB43 , 2H025CB45 , 2H025CC03 , 2H025CC20 , 2H025FA17

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