気体イオン源を備えた粒子光学装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：伊東忠彦 , 大貫進介 , 伊東忠重
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-041143
公開番号（公開出願番号）：特開2007-227381
出願日： 2007年02月21日
公開日（公表日）： 2007年09月06日
要約：

【課題】低エネルギー拡がりで、現在実現可能な輝度よりも明るい輝度の実現が可能な気体イオン源が備えられた粒子光学装置を提供する。【解決手段】高輝度は、一の空間から小さなイオン化容積(1μm未満から数十μmの大きさ)に電子を注入し、他方の空間からのイオンを引き出すことによって実現される。注入される電子は、電界放出型放出体又はショットキー型放出体のような高輝度電子源3で生成される。本発明の一の実施例では、高電子密度は、電界放出型放出体をイオン化容積の近くに設けて、電子源とイオン化容積との間に光学系を設けることなく実現される。本発明の他の実施例では、電子源はMEMS構造上で結像される。50nmの2つの小さな絞りは1μmの間隔を空けて設けられている。電子は1の絞り2から入り込み、イオンはもう一方の絞り7を介してイオン化容積から出て行く。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

気体イオン源が備えられている粒子光学装置であって、前記イオン源は: 最大20μmの直径を有する射出絞りが供されているダイヤフラム壁; 電子ビームを発生させる電子放出表面を有する電子源; 前記ダイヤフラム壁の第1空間に気体を収容する気体収容手段; 前記ダイヤフラム壁のもう一方の空間を真空、つまり前記第1空間よりも低い気体圧力の状態、にする真空手段; 前記電子ビーム中の電子が、イオン化容積中の前記気体をイオン化するエネルギーに到達するように、前記電子ビームを加速させる加速電場を発生させる加速手段;及び、前記加速手段によって生成されたイオンを前記イオン化容積から引き出すための引き出し電場を発生させる引き出し手段; を有し、前記電子放出表面が前記ダイヤフラム壁の前記気体が存在する空間に位置し、かつ、前記イオン化容積の位置での前記電子ビームの直径は30μm未満である、ことを特徴とする粒子光学装置。

IPC (3件)：

H01J 27/20 , H01J 37/08 , H01J 37/317

FI (3件)：

H01J27/20 , H01J37/08 , H01J37/317 D

Fターム (4件)：

5C030DD04 , 5C030DE01 , 5C030DG07 , 5C034DD01

引用特許：

出願人引用 (9件)

米国特許第4500787号明細書
特開昭61-193348号明細書
欧州特許第0056899号明細書

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審査官引用 (18件)

特開昭57-191950
特開昭57-191950
特開昭57-191950

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