特許
J-GLOBAL ID:200903060167355607
マイクロキャビティホールのアレイを作製するためにレーザパルスを使用する方法および装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
山本 秀策
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-091478
公開番号(公開出願番号):特開2001-314989
出願日: 2001年03月27日
公開日(公表日): 2001年11月13日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 ワークピースの表面上にマイクロキャビティのアレイを形成する方法および装置を得ること。【解決手段】 レーザ光パルスのビームを生成するレーザと、レーザ光パルスのビームを複数のビームに分割するビーム分割手段と、1未満の倍率で複数のビームを拡大し、複数のビームをワークピースの表面上へ集光し、材料がマイクロキャビティアレイを形成するワークピースから除去されるようにするレンズシステムと、を備える。
請求項(抜粋):
表面を有するワークピース上にマイクロキャビティのアレイを形成する装置であって、該装置は以下、レーザ光パルスのビームを生成するレーザと、該レーザ光パルスのビームを複数のビームに分割するビーム分割手段と、1未満の倍率で該複数のビームを拡大し、該複数のビームを該ワークピースの該表面上へ集光し、材料がマイクロキャビティアレイを形成する該ワークピースから除去されるようにするレンズシステムと、を備える、装置。
IPC (2件):
B23K 26/06
, B23K 26/00 330
FI (5件):
B23K 26/06 C
, B23K 26/06 E
, B23K 26/06 J
, B23K 26/06 Z
, B23K 26/00 330
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