ガスバリアー性に優れたケイ素酸化物被膜及び包装体

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小野尚純 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-042034
公開番号（公開出願番号）：特開2003-236976
出願日： 2002年02月19日
公開日（公表日）： 2003年08月26日
要約：

【要約】【課題】ガス遮断性(ガスバリアー性)に特に優れており、従来のものに比して薄い膜厚で優れたガス遮断性を達成できると共に、形成される被膜が柔軟性及び可撓性に優れており、生産性にも優れているケイ素酸化物被膜を提供するにある。【解決手段】プラスチック基材上に形成されたケイ素酸化物被膜において、有機ケイ素化合物の化学蒸着により形成され、波数845〜833cm-1におけるSiCH3の赤外特性吸収が実質上ゼロであり、且つSiOH/SiOの赤外吸光度比(A)が0.25以下であることを特徴とするケイ素酸化物被膜。

請求項（抜粋）：

プラスチック基材上に形成されたケイ素酸化物被膜において、有機ケイ素化合物の化学蒸着により形成され、波数845〜833cm-1におけるSiCH3の赤外特性吸収が実質上ゼロであり、且つSiOH/SiOの赤外吸光度比(A)が0.25以下であることを特徴とするケイ素酸化物被膜。

IPC (5件)：

B32B 9/00 , B65D 23/08 , B65D 25/14 , B65D 65/42 BRQ , C23C 16/42

FI (5件)：

B32B 9/00 A , B65D 23/08 B , B65D 25/14 Z , B65D 65/42 BRQ C , C23C 16/42

Fターム (34件)：

3E062AA09 , 3E062AA10 , 3E062AC02 , 3E062JA07 , 3E062JB24 , 3E062JC01 , 3E062JD01 , 3E086AD04 , 3E086BA14 , 3E086BA24 , 3E086BA40 , 3E086BB05 , 3E086BB90 , 4F100AA20B , 4F100AK01A , 4F100AK42 , 4F100AK52C , 4F100BA02 , 4F100BA03 , 4F100BA07 , 4F100BA10A , 4F100BA10B , 4F100EH66B , 4F100GB15 , 4F100GB16 , 4F100JD02 , 4F100YY00B , 4K030BA27 , 4K030BA44 , 4K030CA07 , 4K030CA14 , 4K030FA01 , 4K030LA01 , 4K030LA11

引用特許：

審査官引用 (2件)

ガス遮断性に優れた包装材
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-130965 出願人：東洋製罐株式会社
プラスチック容器の製造方法及び容器
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-062907 出願人：凸版印刷株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

マイクロ波プラズマMOCVDによる酸化シリコン薄膜の低温堆積

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