特許
J-GLOBAL ID：200903060192279230
光吸収性ポリマー、光吸収膜形成性組成物及び光吸収膜とそれを用いた反射防止膜
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鐘尾 宏紀 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-146800
公開番号（公開出願番号）：特開平10-330432
出願日： 1997年06月04日
公開日（公表日）： 1998年12月15日
要約：
【要約】【目的】 所定の波長の光に対し高吸収特性を有し、基板に対する接着性、薄膜形成性に優れ、レジスト依存性がなく、フォトレジスト用溶剤に可溶性で、ベーキング後には不溶化する、光吸収性色素が化学的に結合した光吸収性ポリマー、このポリマ-を含む光吸収膜形成性組成物及びこの組成物から形成された反射防止膜などの光吸収膜を提供する。【構成】 光吸収性ポリマーは、側鎖にケト基と、好ましくはメチレン基を有するモノマーからなる繰り返し単位と、主鎖に直接又は連結基を介して有機発色団が結合されている所定の波長の光を吸収するモノマ-からなる繰り返し単位を少なくとも有する共重合体からなる。この光吸収性ポリマーは、アルコール、芳香族炭化水素、ケトン、エステル等の溶剤に溶解され、ウエハー上に塗布され、ベークされて反射防止膜などの光吸収膜とされる。この膜上には例えば化学増幅型レジストが塗布され、遠紫外線に露光された後現像されて定在波の影響のない微細レジストパターンが形成される。
請求項（抜粋）：
下記式1で示される繰り返し単位及び下記式2で表わされる繰返し単位を少なくとも有する所定の波長の光を吸収する光吸収性ポリマー。【化1】(式中、R1 及びR2 は、互いに同一でも異なってもよく、水素原子、アルキル基、又はその他の有機基を示し、R3 は、少なくとも一つのカルボニル基を有する有機基を示す。)【化2】(式中、R4 及びR5 は、互いに同一でも異なってもよく、水素原子、アルキル基、カルボキシル基、又はその他の有機基を示し、Yは、所定の波長の光を吸収する有機発色団を有する基で、有機発色団は直接又は連結基を介して主鎖の炭素原子に結合されたものを示す。)
IPC (9件)：
C08F220/54
, C08F220/18
, C08F220/28
, C08F212/32
, C08F216/36
, C08F220/36
, C08F226/06
, G03F 7/11 503
, C08F220:28
C08F220/54
, C08F220/18
, C08F220/28
, C08F212/32
, C08F216/36
, C08F220/36
, C08F226/06
, G03F 7/11 503
