特許
J-GLOBAL ID：200903060192935588

パターン化した光学素子の製造方法

発明者：
ライアン、ティモシー ジョージ

ライアン、ティモシー ジョージ について

, 
ハーヴェイ、トーマス グリアソン

ハーヴェイ、トーマス グリアソン について


出願人/特許権者：
エピジェム リミテッド

エピジェム リミテッド について


代理人 (1件)： 松永 孝義
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-562682
公開番号（公開出願番号）：特表2005-516236
出願日： 2003年01月20日
公開日（公表日）： 2005年06月02日
要約：
【課題】【解決手段】 適当な受容材料に形成された、空間的にパターン化した単格子のような表面が周期性を持つ浮彫り状の微細構造を備える配向層を形成し;配向可能な液晶相を示す該配向層の上にコーティング材を積層し;該コーティング材層を固化し、液晶相である間に形成された該配向を固定させるステップを含む、光学リターダに使用するリターダまたは液晶素子などのパターン化した光学素子を製造する方法を開示する。また、光学リターダに使用するリターダまたは液晶素子などのパターン化した光学素子を開示する。
請求項（抜粋）：
適当な受容材料に形成された、空間的にパターン化した表面が周期性を持つ浮彫り状の微細構造(a spatially patterned periodic surface relief microstructure)を備える配向層(alignment layer)を形成し; 該配向層の微細構造でコーティング材を配向可能な配向層の上に液晶相を示すコーティング材を積層し(laying down); 該コーティング材を固体膜にして、該膜と配向層との間の分子配向を実質的に保つ; 工程を含む、パターン化した光学素子を製造する方法。
IPC (2件)：
G02B5/30 ,  G02F1/13363
FI (2件)：
G02B5/30 ,  G02F1/13363
Fターム (20件)：
2H049BA02 ,  2H049BA06 ,  2H049BA42 ,  2H049BA45 ,  2H049BB02 ,  2H049BB42 ,  2H049BC05 ,  2H049BC22 ,  2H091FA07X ,  2H091FA07Z ,  2H091FA11X ,  2H091FA11Z ,  2H091FB02 ,  2H091FC12 ,  2H091FC22 ,  2H091FC23 ,  2H091FD10 ,  2H091GA01 ,  2H091GA06 ,  2H091LA12
引用特許：
出願人引用 (6件)
  • EP特許89200427
  • EP特許0887667
  • US特許5861931
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審査官引用 (5件)
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