特許

J-GLOBAL ID：200903060194319990

フォトマスク修正装置およびフォトマスク修正方法

発明者： 吉野 洋一
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： ▲柳▼川 信
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-083408
公開番号（公開出願番号）：特開平5-249657
出願日： 1992年03月05日
公開日（公表日）： 1993年09月28日
要約：

【要約】【目的】 ガラス基板表面に損傷を与えることなく、残留欠陥の除去修正を可能とする。【構成】 制御部6はフラッシュトリガ信号101 によってレーザ光源1のフラッシュランプの点灯を指示し、Qスイッチトリガ信号102 によってレーザ光源1のQスイッチ動作を指示し、出力制御信号103 によってフラッシュランプの充電電圧を制御する。制御部6は出力制御信号103 によってレーザ電源1bを、レーザヘッド1aから1発目のエネルギE1 よりも小さいエネルギE2 のレーザパルス100 が出射されるよう制御する。

請求項（抜粋）：

フォトマスクの残留欠陥に対してレーザ光を複数回照射して前記残留欠陥の除去修正を行うフォトマスク修正装置であって、前記残留欠陥に照射する最終のレーザ光の出力を前記最終以前のレーザ光の出力よりも低くする手段を設けたことを特徴とするフォトマスク修正装置。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  B23K 26/00

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭56-162748
  
• 特開昭61-014640
  
• 特開平1-219751
  
• 特開平2-097945