基板洗浄装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-119425
公開番号（公開出願番号）：特開2002-313769
出願日： 2001年04月18日
公開日（公表日）： 2002年10月25日
要約：

【要約】【課題】基板への汚染物質の転写を防止し、かつ高いスループットを得ることができる基板洗浄装置を提供する。【解決手段】カセットC1、洗浄ユニット3A、ベークユニット3C、カセットC2の順による搬送経路に沿って基板Wを搬送する。当該搬送経路のうちの洗浄処理前の経路では第1アーム群AG1(搬送アーム45a)によって基板Wを搬送し、洗浄処理後の経路では第2アーム群AG2(搬送アーム45b,45c)によって基板Wを搬送している。汚染される第1アーム群は洗浄処理後の基板に接触せず、清浄な第2アーム群のみが洗浄処理後の基板に接触することとなり、基板Wへの汚染物質の転写が防止される。また、第2アーム群AG2が2本の搬送アーム45b,45cを有しているため、ベークユニット3Cにおいてスムースに基板交換を行うことができ、高いスループットを得ることができる。

請求項（抜粋）：

基板に洗浄処理を行う洗浄処理手段と、前記洗浄処理手段に洗浄処理前の基板を搬入するとともに前記洗浄処理手段から洗浄処理後の基板を搬出する搬送手段とを備えた基板洗浄装置であって、前記搬送手段は、前記洗浄処理前の基板を保持するための第1アーム群と、前記洗浄処理後の基板を保持するための第2アーム群とを備え、前記第1アーム群または前記第2アーム群のうちの一方が基板を保持する1本の搬送アームを有するとともに、他方が基板を保持する2本の搬送アームを有することを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (7件)：

H01L 21/304 648 , B08B 13/00 , B65G 49/06 , B65G 49/07 , G02F 1/13 101 , G02F 1/1333 500 , H01L 21/68

FI (7件)：

H01L 21/304 648 B , B08B 13/00 , B65G 49/06 Z , B65G 49/07 C , G02F 1/13 101 , G02F 1/1333 500 , H01L 21/68 A

Fターム (43件)：

2H088FA21 , 2H088FA25 , 2H088FA30 , 2H088HA01 , 2H088MA20 , 2H090JB02 , 2H090JC19 , 3B116AA02 , 3B116AA03 , 3B116AB01 , 3B116AB08 , 3B116AB23 , 3B116AB43 , 3B116BA03 , 3B116BB21 , 3B116BB82 , 3B116CC00 , 3B116CC03 , 5F031CA02 , 5F031CA05 , 5F031CA07 , 5F031FA01 , 5F031FA02 , 5F031FA04 , 5F031FA07 , 5F031FA11 , 5F031FA12 , 5F031FA15 , 5F031GA06 , 5F031GA43 , 5F031GA47 , 5F031GA48 , 5F031GA49 , 5F031GA50 , 5F031JA49 , 5F031LA07 , 5F031LA13 , 5F031MA23 , 5F031MA26 , 5F031MA27 , 5F031PA03 , 5F031PA26 , 5F031PA30

引用特許：

審査官引用 (1件)

基板搬送装置および基板搬送方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-328682 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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