特許

J-GLOBAL ID：200903060235554117

ロードロック室、チャンバ、半導体製造装置およびデバイス製造方法

発明者： 原 真一 ,  長谷川 隆行 ,  田中 裕 ,  寺島 茂 ,  時田 俊伸
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-273558
公開番号（公開出願番号）：特開2001-102281
出願日： 1999年09月28日
公開日（公表日）： 2001年04月13日
要約：

【要約】【課題】 ロードロック室から排気された気体を再利用する。【解決手段】 A室1は、ウエハW1 を露光するための露光装置を内蔵し、高価なヘリウムの減圧雰囲気によって満たされており、ウエハW1 をA室1に搬入するためにゲートバルブ1aを開くときは、第1の排気ライン4によってロードロック室3を真空排気したうえで、ヘリウム源7aからロードロック室3にヘリウムを導入する。A室1からウエハW1 を搬出するときは、ウエハW1 をロードロック室3に戻して第2の排気ライン5によってロードロック室3を排気し、ヘリウムをヘリウム源7aに回収したうえで、air源6aからairをロードロック室3に導入し、ゲートバルブ2aを開く。

請求項（抜粋）：

互いに独立した2つの雰囲気のそれぞれとゲートバルブを介して連通自在である密閉空間と、該密閉空間を排気する排気手段と、該排気手段の排気を前記密閉空間に還流させるための排気回収手段を備えていることを特徴とするロードロック室。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31

FI (4件)：

G03F 7/20 503 ,  H01L 21/31 B ,  H01L 21/30 531 Z ,  H01L 21/302 B

Fターム (26件)：

2H097BA02 ,  2H097BA06 ,  2H097BA10 ,  2H097CA15 ,  2H097DB01 ,  2H097LA10 ,  5F004AA13 ,  5F004AA16 ,  5F004BC01 ,  5F004BC05 ,  5F004BC06 ,  5F045BB08 ,  5F045DQ17 ,  5F045EB08 ,  5F045EB09 ,  5F045EB12 ,  5F045EB17 ,  5F045EG03 ,  5F045EN02 ,  5F045EN04 ,  5F045GB02 ,  5F045GB06 ,  5F045HA25 ,  5F046AA22 ,  5F046GA07 ,  5F046GA14