特許
J-GLOBAL ID：200903060243107057
蒸着方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉浦 正知
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-246799
公開番号（公開出願番号）：特開平5-059536
出願日： 1991年08月30日
公開日（公表日）： 1993年03月09日
要約：
【要約】【目的】 蒸発材料の使用効率を高くし、蒸着速度を大きくし、しかも基板の損傷が生じるおそれを少なくする。【構成】 中空状ターゲット9を陰極とするとともに、シールド板11を陽極とし、ガス導入口2から真空容器1内に導入された不活性ガスを含む雰囲気中においてこれらの陽極及び陰極の間で放電を起こさせ、中空状ターゲット9の中空部に高温高密度のプラズマ13を形成する。これによって、放電により発生するイオンによるスパッタ及びセルフスパッタの作用に加えて、高温高密度のプラズマ13の作用により、中空状ターゲット9の内壁から原子または分子が蒸発し、これが中空状ターゲット9の開口部9cを通って基板上に堆積し、膜形成が行われる。
請求項（抜粋）：
少なくとも不活性ガス導入手段を備えた真空容器中に、蒸着すべき材料から成る少なくとも1個の開口部を有する中空状ターゲットを設け、上記不活性ガス導入手段により上記真空容器中に導入される不活性ガスを含む雰囲気中において、上記中空状ターゲットの近傍に設けられた陽極と上記中空状ターゲットから成る陰極との間で放電を起こさせることにより上記中空状ターゲットの中空部にプラズマを形成し、上記放電に起因して発生するイオン及び上記プラズマの作用により上記中空状ターゲットの内壁面から蒸発する原子または分子を上記開口部を通じて基板上に堆積させるようにした蒸着方法。
引用特許：
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