特許
J-GLOBAL ID：200903060251978920
有機膜蒸着方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外2名)
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP1999003269
公開番号（公開出願番号）：WO1999-066351
出願日： 1999年06月18日
公開日（公表日）： 1999年12月23日
要約：
【要約】ターンテーブル上に立てられた少なくとも3本の試料支持針によりシンチレータが形成された基板を支持する第1の工程と、基板が支持されているターンテーブルをCVD装置の蒸着室に導入する第2の工程と、蒸着室に導入されたシンチレータが形成された基板のシンチレータ及び基板の全面にCVD法により有機膜を蒸着させる第3の工程とを備える。
請求項（抜粋）：
蒸着台上に配置され、試料支持体の少なくとも3点以上の凸部によりシンチレータが形成された基板を前記蒸着台から離着して支持する第1の工程と、 前記基板が前記試料支持体により支持されている蒸着台をCVD装置の蒸着室に導入する第2の工程と、 前記蒸着室に導入された前記シンチレータが形成された前記基板の前記シンチレータ及び前記基板の全面にCVD法により有機膜を蒸着させる第3の工程と、 を備えることを特徴とする有機膜蒸着方法。
IPC (1件)：
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