特許
J-GLOBAL ID：200903060255419232
導波路を形成する方法及びそれから形成される導波路
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
千田 稔
, 辻永 和徳
, 橋本 幸治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-401271
公開番号（公開出願番号）：特開2004-185000
出願日： 2003年12月01日
公開日（公表日）： 2004年07月02日
要約：
【課題】挿入損失の少ない光学導波路を形成する方法、光学導波路及びその光学導波路の1以上を含む電子装置が提供される。【解決手段】(a)基体上に感光性組成物の層を形成し;(b)化学線で層の一部を露光し;(c)露光層を現像して導波路コア構造を形成し;(d)導波路コア構造が少なくとも部分的に断面が丸くなるようその構造をリフローするのに効果的な温度まで且つ時間の間、導波路コア構造を加熱することを含む。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
(a)基体上にフォトデファイナブル組成物の層を形成し;
(b)該層の一部を化学線で露光し;
(c)露光された層を現像して導波路コア構造を形成し;さらに
(d)導波路コア構造が少なくとも部分的に断面が丸くなるよう、その構造をリフローするのに効果的な温度および時間で、導波路コア構造を加熱することを含む、光学導波路を形成する方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (6件)：
2H047KA04
, 2H047PA02
, 2H047PA21
, 2H047PA22
, 2H047QA05
, 2H047TA41
