特許
J-GLOBAL ID：200903060271135716
回転塗布装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-053071
公開番号（公開出願番号）：特開平5-253527
出願日： 1992年03月12日
公開日（公表日）： 1993年10月05日
要約：
【要約】 (修正有)【構成】 チャック部2に装着したセラミック基板1をカップ5に収容して蓋を被せて密封し、密封状態でチャック部を回転させることによってセラミック基板に供給したフォトレジストをセラミック基板の全面に塗布する。【効果】 セラミック基板の回転中にフォトレジストの溶剤成分が揮発しないため、樹脂成分が糸状となって残留して基板の表面に付着して不良が発生するのを防止できる。
請求項（抜粋）：
被塗布物体を装着して固定するチャック部と、前記チャック部を回転させる回転駆動部と、前記チャック部に装着された前記被塗布物体に対して一定量の塗布物を供給するノズルと、前記チャック部に装着された前記被塗布物体を収容するカップと、前記カップ内に収容した前記被塗布物体を密封する蓋と、前記カップおよび前記蓋によって前記被塗布物体を密封した空間から空気を排出するための排気弁とを備えることを特徴とする回転塗布装置。
IPC (3件)：
B05C 11/08
, H01L 21/027
, H05K 3/06
