特許

J-GLOBAL ID：200903060278406979

R-T-B系希土類永久磁石

発明者： 日▲高▼ 徹也 ,  坂元 一也 ,  岡田 宏成
出願人/特許権者： TDK株式会社
代理人 (2件)： 大場 充 ,  堀川 美夕紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-328277
公開番号（公開出願番号）：特開2006-100847
出願日： 2005年11月14日
公開日（公表日）： 2006年04月13日
要約：

【課題】低い着磁磁界でより高い着磁率を得るとともに、着磁特性曲線がより低高磁界側に存在するR-T-B系希土類永久磁石を提供する。【解決手段】R2T14B相(ただし、RはYを含む希土類元素の1種又は2種以上、TはFe又はFe及びCoを必須とする1種又は2種以上の遷移金属元素)からなる主相と、主相よりRを多く含む粒界相とを備えた焼結体からなり、Pc(パーミアンス係数)が2において、240kA/mの有効磁場(ただし、有効磁場=印加磁場-反磁場)を印加したときのトータルフラックスをf1、800kA/mの有効磁場を印加したときのトータルフラックスをf2、2000kA/mの有効磁場を印加したときのトータルフラックスをf3とすると、着磁率a(=f1/f3×100)が40%以上、かつ、着磁率b(=f2/f3×100)が90%以上である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

R2T14B相(ただし、RはYを含む希土類元素の1種又は2種以上、TはFe又はFe及びCoを必須とする1種又は2種以上の遷移金属元素)からなる主相と、 前記主相よりRを多く含む粒界相とを備えた焼結体からなり、 Pc(パーミアンス係数)が2において、 240kA/mの有効磁場(ただし、有効磁場=印加磁場-反磁場)を印加したときのトータルフラックスをf1、 800kA/mの有効磁場を印加したときのトータルフラックスをf2、 2000kA/mの有効磁場を印加したときのトータルフラックスをf3とすると、 着磁率a(=f1/f3×100)が40%以上、かつ、 着磁率b(=f2/f3×100)が90%以上であることを特徴とするR-T-B系希土類永久磁石。

IPC (2件)：

H01F 1/053 ,  C22C 38/00

FI (2件)：

H01F1/04 H ,  C22C38/00 303D

Fターム (6件)：

5E040AA04 ,  5E040BD01 ,  5E040CA01 ,  5E040NN01 ,  5E040NN12 ,  5E040NN13

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 希土類合金焼結体およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-089551   出願人：住友特殊金属株式会社