特許
J-GLOBAL ID：200903060280738164
光照射加熱装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-284034
公開番号（公開出願番号）：特開平5-114570
出願日： 1991年10月03日
公開日（公表日）： 1993年05月07日
要約：
【要約】【目的】 半導体ウエハの予備加熱を不要とし、かつ、加熱ムラが起きない光照射加熱装置を提供する。【構成】 ウエハWに対する平行な面内に複数本のCWアークランプ7を配し、各CWアークランプ7への供給電力の割合をそれぞれに可変する可変抵抗器15を備える。ウエハWの温度分布が均一となるように、CWアークランプ7の照射効率に合わせて可変抵抗器15の抵抗値を設定して光照射加熱処理を行う。
請求項（抜粋）：
被処理物である半導体ウエハに対して平行な面内に配される複数本の連続放電灯(CWアークランプ)と、前記半導体ウエハの温度分布が均一になるように前記各連続放電灯への供給電力の割合をそれぞれ任意に設定する電力設定手段と、前記半導体ウエハの温度を検出する温度検出手段と、前記温度検出手段からの検出信号に基づいて前記半導体ウエハの温度が目標温度となるように前記電力設定手段を制御する制御手段と、を備えたことを特徴とする光照射加熱装置。
IPC (2件)：
引用特許：
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