特許

J-GLOBAL ID：200903060291722464

露光装置

発明者： 山津 康義
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-208363
公開番号（公開出願番号）：特開平7-045513
出願日： 1993年07月30日
公開日（公表日）： 1995年02月14日
要約：

【要約】【目的】 ウエハの周辺部を均一な光強度分布の光束で露光することのできる露光装置を得ること。【構成】 レジストを塗布したウエハを回転台に載置し、該ウエハを回転させながら該ウエハの周辺部のレジストを光源からの光束で露光する際、該光束を部分的且つ動的に遮光する可変遮光手段と、該ウエハの周辺部を挟み該可変遮光手段と光学的に対向した位置に配置した受光手段と、該受光手段で得られる信号を用いて、該ウエハのエッジ位置及び可変遮光手段からの光束の遮光部分を検出し、該ウエハのエッジ位置情報に基づき、該可変遮光手段の遮光領域の変化量にサーボ制御をかけ、該ウエハの周辺部の回転半径方向に関する露光幅を制御する制御手段とを設けたこと。

請求項（抜粋）：

レジストを塗布したウエハを回転台に載置し、該ウエハを回転させながら該ウエハの周辺部のレジストを光源からの光束で露光する際、該光束を部分的且つ動的に遮光する可変遮光手段と、該ウエハの周辺部を挟み該可変遮光手段と光学的に対向した位置に配置した受光手段と、該受光手段で得られる信号を用いて、該ウエハのエッジ位置及び可変遮光手段からの光束の遮光部分を検出し、該ウエハのエッジ位置情報に基づき、該可変遮光手段の遮光領域の変化量にサーボ制御をかけ、該ウエハの周辺部の回転半径方向に関する露光幅を制御する制御手段とを設けたことを特徴とする露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G02B 6/00 331 ,  G02F 1/13 505 ,  G03F 7/20