特許
J-GLOBAL ID：200903060302560453
異物検査装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
梶山 佶是 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-040404
公開番号（公開出願番号）：特開平6-229939
出願日： 1993年02月04日
公開日（公表日）： 1994年08月19日
要約：
【要約】【目的】検査効率を落とすことなく、より微少な異物を検出でき、しかもデータの一元管理が容易となる異物検出装置を実現する。【構成】照射されたS波のレーザビームLの散乱光の集光ライン上にS偏光とP偏光に偏光分離する偏光分離素子49が配設され、S偏光についてのフーリエ変換方式(62,61,41,42)の検出結果DaとP偏光についてのノンフーリエ変換方式(91,92)の検出結果Dbとが並行して求められ、識別情報としてのレイアウトパターンデータ(74)に応じて選択回路93により何れかの検出結果が選択されて一の異物情報データが得られる。
請求項（抜粋）：
規則的な微細パターンの形成された第1の表面領域と前記微細パターンに比較して大きなパターンの形成された第2の表面領域とを有するウエハ・レチクル・TFTガラス基板等の被検体表面に対し、レーザビームを照射し、散乱・回折光を集光レンズにより集光してその強度を計測することにより、前記被検体表面に付着した異物を検出する異物検査装置において、前記集光レンズの集光ライン上に配設され、照射される前記レーザビームがS波であるのときの散乱・回折光のうち前記集光レンズを介する光を、S偏光とP偏光に偏光分離する偏光分離素子と、分離された前記S偏光のフーリェ変換面に配設され、前記微細パターンに特有のフーリェ変換パターンに適合する遮光パターンを有する空間フィルタと、前記空間フィルタを介して集光された前記S偏光の強度を計測して第1の計測値とし、異物の無い前記第1の表面領域の計測値に対応して決定された第1の閾値を基準として、前記第1の計測値に応じた第1の異物情報データを生成する第1の異物情報データ生成手段と、分離された前記P偏光の強度を計測して第2の計測値とし、異物の無い前記第2の表面領域の計測値に対応して決定された第2の閾値を基準として、前記第2の計測値に応じた第2の異物情報データを生成する第2の異物情報データ生成手段と、を備え、前記レーザビームの前記被検体表面における照射位置が前記第1の表面領域及び前記第2の表面領域の何れであるかに対応して、前記第1の異物情報データ及び前記第2の異物情報データの何れかを収集し、これらの異物情報データに基づいて異物の検出を行うことを特徴とする異物検査装置。
IPC (5件)：
G01N 21/88
, G01B 11/30
, G02B 27/28
, H01L 21/66
, H01S 3/00
