特許

J-GLOBAL ID：200903060308705038

めっき装置

発明者： 笹部 憲一 ,  本郷 明久 ,  千代 敏 ,  富岡 賢哉 ,  津田 勝巳 ,  粂川 正行
出願人/特許権者： 株式会社荏原製作所
代理人 (1件)： 渡邉 勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-228897
公開番号（公開出願番号）：特開2001-049489
出願日： 1999年08月12日
公開日（公表日）： 2001年02月20日
要約：

【要約】【課題】 めっき液噴射管から噴射されて形成されるめっき液の噴流を滑らかに基板のめっき面に送るとともに、めっき面の電解を均一にして、均一なめっき膜が形成できるようにしためっき装置を提供する。【解決手段】 めっき液10を保持する円筒状のめっき槽12と、該めっき槽12の底部中央に接続されて上方に向けためっき液の噴流を形成するめっき液噴射管18と、基板Wを着脱自在に保持して該基板下面のめっき面がめっき液10の噴流と接触するように水平に配置する基板保持部14と、めっき槽12内のめっき液10中に配置された陽極板16とを備え、めっき槽12の内部には、めっき液噴射管18の上端からめっき液の噴流の流線に沿ってラッパ状に拡径して上方に延びる整流ガイド32が配置されている。

請求項（抜粋）：

めっき液を保持する円筒状のめっき槽と、該めっき槽の底部中央に接続されて上方に向けためっき液の噴流を形成するめっき液噴射管と、基板を着脱自在に保持して該基板下面のめっき面がめっき液の噴流と接触するように水平に配置する基板保持部と、前記めっき槽内のめっき液中に配置された陽極板とを備え、前記めっき槽の内部には、前記めっき液噴射管の上端から前記めっき液の噴流の流線に沿ってラッパ状に拡径して上方に延びる整流ガイドが配置されていることを特徴とするめっき装置。

IPC (6件)：

C25D 5/08 ,  C25D 5/04 ,  C25D 7/12 ,  C25D 17/00 ,  C25D 17/10 ,  H01L 21/288

FI (6件)：

C25D 5/08 ,  C25D 5/04 ,  C25D 7/12 ,  C25D 17/00 C ,  C25D 17/10 C ,  H01L 21/288 E

Fターム (19件)：

4K024AA09 ,  4K024AB01 ,  4K024AB06 ,  4K024BA11 ,  4K024BB12 ,  4K024CB06 ,  4K024CB07 ,  4K024CB08 ,  4K024CB09 ,  4K024CB13 ,  4K024CB15 ,  4K024CB21 ,  4K024GA16 ,  4M104BB04 ,  4M104BB30 ,  4M104CC01 ,  4M104DD52 ,  4M104FF18 ,  4M104HH20