特許
J-GLOBAL ID：200903060308813906
赤外線用光路の作製方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-100482
公開番号（公開出願番号）：特開平5-273425
出願日： 1992年03月26日
公開日（公表日）： 1993年10月22日
要約：
【要約】【目的】赤外線用光路を作製する方法を提供する。【構成】平行平板型高周波プラズマCVD装置を用いて、赤外線に対して透明なダイヤモンドライクカーボン=DLC薄膜を作製する方法において、基板材料が負となるように直流バイアス電位を設け、この電位を調節する事により、膜の水素濃度、屈折率及び硬度を変化させる工程と、電極の表面に誘電率の異なる誘電体によって光路のパターンを形成することにより、電極間に局所的なプラズマ密度の差を設けて膜を形成することで、マスキングを行うこと無しに水素濃度、屈折率及び硬度が異なるパターンを作製する赤外線用光路の作製方法。
請求項（抜粋）：
無定形炭素薄膜を平行平板型高周波プラズマCVD装置を用いて作製する方法において、基板材料を載置した電極の電位が負となるように直流バイアス電位を設け、この電位を調節する事により、膜の水素濃度、屈折率及び硬度を変化させることを特徴とする赤外線用光路の作製方法。
IPC (3件)：
G02B 6/12
, C01B 31/02 101
, C23C 16/26
