特許

J-GLOBAL ID：200903060313150931

表面分析装置

発明者： 中沢 正敏 ,  武藤 朗子 ,  山本 健一
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-160616
公開番号（公開出願番号）：特開平6-003295
出願日： 1992年06月19日
公開日（公表日）： 1994年01月11日
要約：

【要約】【目的】固体試料表面の元素分析,化合状態の評価さらに形状評価・構造解析を同時に可能とする表面分析装置を提供すること。【構成】固体試料2にX線,電子線又はイオン線1を照射するための線源,試料面に鉛直な軸のまわりで、極角及び方位角方向において制御した複数の電子エネルギ分析器もしくは検出器3,4、電子エネルギスペクトルの表示・処理を行なうための計算機17を含む。【効果】固体試料表面の元素分析,化合状態の評価に加えて試料表面の形状評価や構造解析を同時に行ない、高効率な表面分析が可能である。

請求項（抜粋）：

X線,電子又はイオンの照射によって固体試料表面から種々の運動エネルギを持って放出される光電子,オージェ電子等の2次的電子をエネルギ分析する表面分析装置において、前記試料面に鉛直な軸に対して、極角及び方位角方向の角度を精密に制御し、移動できる構造をもつ複数の電子エネルギ分析器もしくは検出器を設置したことを特徴とする表面分析装置。