非接触表面形状測定方法及びその装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-147244
公開番号（公開出願番号）：特開平10-318729
出願日： 1997年05月21日
公開日（公表日）： 1998年12月04日
要約：

【要約】【課題】垂直走査形の光学式検出器を用いてワークの表面形状を測定し、検出器とワークとを相対的に移動させることによって、検出器の視野より広い範囲のワークの表面形状を測定する非接触表面形状測定方法及びその装置において、測定時間が短い測定方法及びその装置を提供する。【解決手段】一つ前の測定位置におけるワークの表面形状の平均高さを記憶しておき、その平均高さを基準とする所定の範囲だけ検出器を測定面に対して垂直走査して、ワークの表面形状を測定する。【効果】各測定位置ごとにワークの最大変位量を走査する必要がないので、ワーク測定面の変位量が検出器の視野内での測定可能幅より大きくても測定時間が長くならない。

請求項（抜粋）：

垂直走査形の光学式検出器を用い、その検出器とワークとを相対的に移動させることによって、その検出器の視野より広い範囲のワークの表面形状を測定する非接触表面形状測定方法において、ワークの第1測定位置におけるワークの表面形状を測定し、ワークの第2測定位置に前記検出器が来るように、前記検出器とワークとを相対的に移動させ、ワークの第2測定位置においては、前記第1測定位置におけるワークの表面形状の平均高さを基準とする所定の範囲、前記検出器を垂直走査してワークの表面形状を測定し、同様にして、ワークの第K測定位置に前記検出器が来るように、前記検出器とワークとを相対的に移動させ、ワークの第K測定位置においては、前記第K-1測定位置におけるワークの表面形状の平均高さを基準とする所定の範囲、前記検出器を垂直走査してワークの表面形状を測定することを特徴とする非接触表面形状測定方法。

IPC (2件)：

G01B 11/24 , G01B 11/30 102

FI (3件)：

G01B 11/24 D , G01B 11/24 M , G01B 11/30 102 B

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