特許
J-GLOBAL ID：200903060329344914
美容処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-111263
公開番号（公開出願番号）：特開2003-126204
出願日： 2002年04月12日
公開日（公表日）： 2003年05月07日
要約：
【要約】【課題】 皮膚の再生促進処理や汚れの除去処理などの美容処理を実施する美容処理装置において、皮膚へのダメージを抑制した上で、皮膚表面の老化した角質や汚れなどを均一にかつ適度に除去することを可能にする。【解決手段】 美容処理装置は、偏心ロータ2を有するモータ3などの振動発生手段が内蔵された装置本体1を具備する。装置本体1の先端部分には、振動発生手段から振動が伝達されるように美容処理チップ10が保持されている。美容処理チップ10は振動発生手段からの振動を皮膚表面に印加するように当接されるものであり、粒度が#80〜#800の範囲の砥粒、例えばセラミックス砥粒を備える。美容処理チップ10は特にアルミナ砥粒で構成することが好ましい。
請求項（抜粋）：
装置本体と、前記装置本体に内蔵された振動発生手段と、前記振動発生手段から振動が伝達され、かつ美容処理を施す身体の皮膚表面に前記振動を印加するように当接される美容処理チップとを具備する美容処理装置において、前記美容処理チップは、粒度が#80〜#800の範囲の砥粒を備えることを特徴とする美容処理装置。
IPC (2件)：
A61H 23/02 386
, A47K 7/04
A61H 23/02 386
, A47K 7/04
2D034DA00
, 4C074AA05
, 4C074BB01
, 4C074CC01
, 4C074DD01
, 4C074GG01
, 4C074HH04
