特許

J-GLOBAL ID：200903060356141855

電子線照射されたシートおよびその製造法

発明者： 青嶋 正志 ,  佐々 龍生 ,  重松 広信
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 諸石 光▲ひろ▼ (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-096428
公開番号（公開出願番号）：特開平5-295136
出願日： 1992年04月16日
公開日（公表日）： 1993年11月09日
要約：

【要約】【目的】 融着施工作業性、物性、剥離強度に優れたシ-トを提供する。【構成】 シ-ト状の高分子組成物に対し片面から電子線を照射して得られる、電子線架橋層と未架橋層とを合わせ持つことを特徴とするシ-トであり、シ-トの高分子組成物を構成する高分子化合物がエチレン-α-オレフィン重合系ゴム、クロロスルホン化ポリエチレンゴム、塩素化ポリエチレン、ポリ塩化ビニルであることを特徴とするシ-トを得る方法およびその方法により得られるシ-ト。

請求項（抜粋）：

シ-ト状の高分子組成物に対し、電子線の透過がシ-ト厚さの30〜70%となるような加速電圧下で片面から電子線を照射して得られる電子線架橋層、と未架橋層とを合わせ持つことを特徴とするシ-ト。

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭51-061570
  
• 特開昭55-161828