特許

J-GLOBAL ID：200903060359249770

散乱メンブレンマスク及び露光方法

発明者： 河田 真太郎
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-102944
公開番号（公開出願番号）：特開2002-299215
出願日： 2001年04月02日
公開日（公表日）： 2002年10月11日
要約：

【要約】【課題】 マスクにダメージを与えることなくドライエッチング洗浄を行うことができる散乱メンブレンマスクを提供する。また、露光コストの上昇を抑えることができる荷電粒子線露光方法を提供する。【解決手段】 荷電粒子線露光装置において使用される、メンブレン上に散乱体パターンが形成された散乱メンブレンマスクであって、 前記散乱メンブレンマスクは、その表面に前記メンブレンとは異なる材質の薄膜を有することを特徴とする散乱メンブレンマスクとした。

請求項（抜粋）：

荷電粒子線露光装置において使用される、メンブレン上に散乱体パターンが形成された散乱メンブレンマスクであって、前記散乱メンブレンマスクは、その表面に前記メンブレンとは異なる材質の薄膜を有することを特徴とする散乱メンブレンマスク。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 541 S

Fターム (3件)：

5F056AA06 ,  5F056EA04 ,  5F056FA05