特許

J-GLOBAL ID：200903060371320979

ヘッドスライダ

発明者： 清水 裕樹 ,  徐 鈞国 ,  李 建華 ,  小平 英一 ,  松崎 哲也 ,  阿南 英利
出願人/特許権者： ヒタチグローバルストレージテクノロジーズネザーランドビーブイ
代理人 (1件)： ポレール特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-242687
公開番号（公開出願番号）：特開2008-065903
出願日： 2006年09月07日
公開日（公表日）： 2008年03月21日
要約：

【課題】磁気ヘッドスライダの低浮上化に伴い、磁気ヘッドスライダ浮上面へのコンタミネーション付着によるスライダ浮上不安定化が問題となる。【解決手段】磁気ヘッドスライダ1の浮上面のうち、フロントレール面4とセンタレール面7を除いた全面に、表面エネルギ低減効果を発現するイオンを注入する。これにより、磁気ヘッドスライダ浮上面のうち、特にコンタミネーション付着が起こりやすいフロントステップ軸受け面5、サイドステップ軸受け面6、センタステップ軸受け面8、負圧溝9へのコンタミネーション付着を防止し、スライダ浮上不安定化を抑制する。また、磁気ヘッドスライダ浮上面全面へのイオン注入はフロントレール面4、センタレール面7の表面粗さを増大するが、本発明のようにフロントレール面4、センタレール面7を除いてイオン注入を実施すれば、表面粗さを増大することなく浮上面へのコンタミネーション付着を効果的に防止し、スライダ浮上不安定化を抑制できる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

表面に保護膜が形成されたレール面と、このレール面より深い位置に形成されたステップ軸受け面と、このステップ軸受け面より深い位置に形成されイオン注入された負圧溝面とを備えたヘッドスライダ。

IPC (2件)：

G11B 5/60 ,  G11B 21/21

FI (3件)：

G11B5/60 C ,  G11B21/21 101Q ,  G11B21/21 101L

Fターム (6件)：

5D042NA02 ,  5D042PA01 ,  5D042PA08 ,  5D042QA02 ,  5D042QA03 ,  5D042RA10

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 接触記録用磁気ヘッドスライダ及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-292571   出願人：株式会社日立製作所