特許
J-GLOBAL ID：200903060379475548
露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-195684
公開番号（公開出願番号）：特開平7-050247
出願日： 1993年08月06日
公開日（公表日）： 1995年02月21日
要約：
【要約】【目的】 画面合成方式で基板上の複数のショット領域に露光する際に、レチクルに特別の工夫を施すことなく、各ショット領域間の継ぎ部での線幅の変化、段差、若しくは重ね合わせ誤差等を連続的に徐々に変化させる。【構成】 基板上の第1のショット領域及び第2のショット領域に幅δの部分が重なるようにパターン40及び41を露光する。パターン40を露光する際に、レチクルブランドのブレードの投影像35AW及び35BWでパターン40を囲み、パターン40をX方向に幅δだけ移動させるのと同期して基板も対応する方向に移動する。この際に、パターン40の左側のエッジ部40aに追従してブレード35BWをX方向に移動する。
請求項（抜粋）：
転写用のパターンが形成されたマスクを照明光で感光性の基板側に照明する照明光学系と、前記照明光による前記マスク上の照明領域を所定の形状に設定する視野絞り手段とを備え、前記基板上の第1の領域に前記マスクのパターンの像を露光した後、前記基板上の前記第1の領域と一部が重なる第2の領域に前記マスクのパターンの像を露光することにより、前記基板上に前記マスク上のパターンの像より大きなパターンの像を露光する露光装置において、前記マスクを所定の方向に移動させるマスクステージと、前記マスクステージの駆動と同期して前記基板を所定の方向に移動させる基板ステージと、を有し、前記基板上の前記第1の領域又は前記第2の領域に前記マスクのパターンの像を露光する際に、前記マスクステージ及び前記基板ステージを駆動して、前記第1の領域と前記第2の領域との重複領域の幅に対応する前記マスク上での幅だけ前記照明領域に対して前記マスクを移動させると共に、前記マスクのパターンの像が前記基板上の所定の領域に露光されるように前記第1の領域と前記第2の領域との重複領域の幅だけ前記基板を移動するようにしたことを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 515 D
, H01L 21/30 502 C
