特許

J-GLOBAL ID：200903060386101904

ホスフィンオキシド化合物およびその製造方法

発明者： 船木 克彦 ,  原 烈 ,  林 貴臣 ,  清野 真二 ,  柴原 敦 ,  水谷 一美 ,  昇 忠仁 ,  高木 夘三治
出願人/特許権者： 三井化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-184209
公開番号（公開出願番号）：特開2001-011085
出願日： 1999年06月29日
公開日（公表日）： 2001年01月16日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 有機溶媒に可溶な塩基性化合物であって、なおかつエポキシ化合物と酸無水物との反応においても高い触媒作用を有する化合物を提供するとともに、その製造法を提供する。【解決手段】 式(1)(式中のQはピロリジノ基またはピペリジノ基を示す)で表されるホスフィンオキシド化合物。さらには、オキシ三塩化りんと式(2)(式中のQはピロリジノ基またはピペリジノ基を示す)で表されるイミノホスホラン化合物とを反応させることを特徴とするトリス(トリピロリジノホスホラニリデンアミノ)ホスフィンオキシドおよびトリス(トリピペリジノホスホラニリデンアミノ)ホスフィンオキシドの製造方法。

請求項（抜粋）：

式(1)【化1】(式中のQはピロリジノ基またはピペリジノ基を示す)で表されるホスフィンオキシド化合物。

IPC (2件)：

C07F 9/572 ,  C07F 9/59

FI (2件)：

C07F 9/572 Z ,  C07F 9/59

Fターム (5件)：

4H050AA01 ,  4H050AA02 ,  4H050AB40 ,  4H050WA15 ,  4H050WA27