特許
J-GLOBAL ID:200903060410943164
ポリエチレンテレフタレートの射出成形方法およびその射出成形システム装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
杉山 泰三
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-147879
公開番号(公開出願番号):特開2000-334774
出願日: 1999年05月27日
公開日(公表日): 2000年12月05日
要約:
【要約】【課題】 比較的容易に且つ安価に入手できる結晶化前ペレットと成形時にできてしまう工場内発生廃材を利用できるようにすることによって、結晶化済みペレット利用成形品を自社工場内で得ることを可能とする新規のポリエチレンテレフタレートの射出成形方法およびその射出成形システム装置を提供することを目的とする。【解決手段】 結晶化前ペレットを結晶化済みペレットとするためのバッチ式ポリエチレンテレフタレート結晶化装置を構成し、この結晶化装置の結晶化済みペレットの排出口を射出成形機本体のペレット投入口に直結して成るものである。
請求項(抜粋):
結晶化前ペレットを結晶化済みペレットとするためのバッチ式ポリエチレンテレフタレート結晶化装置と射出成形機本体とを連設し、結晶化装置により得た結晶化済みペレットを射出成形機本体に対して送り込んで成形品を得ることを特徴とするポリエチレンテレフタレートの射出成形方法。
IPC (6件):
B29C 45/18
, B29B 13/02
, C08G 63/183
, C08L 67/02
, B29K 67:00
, B29K105:26
FI (4件):
B29C 45/18
, B29B 13/02
, C08G 63/183
, C08L 67/02
Fターム (38件):
4F201AA25
, 4F201AC01
, 4F201BA04
, 4F201BC01
, 4F201BC02
, 4F201BC12
, 4F201BC27
, 4F201BD04
, 4F201BK02
, 4F201BK07
, 4F201BK15
, 4F201BK22
, 4F201BL05
, 4F201BL42
, 4F201BN01
, 4F201BP11
, 4F201BQ08
, 4F206AA25
, 4F206AC01
, 4F206JA07
, 4F206JE06
, 4F206JE16
, 4F206JF11
, 4F206JF41
, 4F206JF51
, 4F206JM01
, 4F206JN01
, 4F206JQ71
, 4J002CF061
, 4J002FD090
, 4J002FD170
, 4J002FD200
, 4J029AA01
, 4J029AB07
, 4J029AC01
, 4J029AE01
, 4J029BA03
, 4J029CB06A
引用特許:
審査官引用 (4件)
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特開平2-165913
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特開平2-165914
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特開昭51-097663
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