特許

J-GLOBAL ID：200903060419300380

微細光記録装置

発明者： 一色 史雄 ,  伊藤 顕知 ,  保坂 純男
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-004950
公開番号（公開出願番号）：特開2000-206315
出願日： 1999年01月12日
公開日（公表日）： 2000年07月28日
要約：

【要約】【課題】微小な径のアパーチャにおける、光の透過効率や、試料との接触性を改善し、さらにそのような構造を簡易に作製すること。【解決手段】遮光膜に形成された透過窓を、透明な誘電体物質で充填した凸型構造とする。この構造は遮光膜の一部を選択的に化学変化させて透明化することで作製できる。上記透明化は、レジストを用いた選択的な酸化・水酸化・窒化または弗化や、微小探針等を用いて行う通電酸化(陽極酸化)、スポット加熱による熱酸化等により実現できる。【効果】遮光膜表面よりも凸型に張り出した構造により試料面と透明窓の距離を接近させることができ、ニアフィールド光を効率良く対象物表面まで供給できる。

請求項（抜粋）：

光学的に不透明または半透明で有限の厚さを持つ遮光膜部分と、遮光膜部分より高い透過率を持つ透過窓部分より成る、光の透過する領域を限定するための光学的手段、またはニアフィールド光を発生させるための光学的手段において、その透過窓部分が、誘電体物質により充填されており、かつその透過窓部分のみが選択的に遮光膜表面よりも凸型に突き出していることを特徴とする微小アパーチャ。

IPC (3件)：

G02B 5/00 ,  G01N 13/14 ,  G11B 7/135

FI (3件)：

G02B 5/00 B ,  G01N 37/00 E ,  G11B 7/135 A

Fターム (13件)：

2H042AA18 ,  2H042AA21 ,  5D119AA11 ,  5D119AA22 ,  5D119BA01 ,  5D119CA06 ,  5D119DA01 ,  5D119DA05 ,  5D119JA34 ,  5D119JA35 ,  5D119JA44 ,  5D119JA64 ,  5D119NA05