特許
J-GLOBAL ID：200903060426014899
光ディスク基板の製造装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
樺山 亨 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-197492
公開番号（公開出願番号）：特開平7-057307
出願日： 1993年08月09日
公開日（公表日）： 1995年03月03日
要約：
【要約】【目的】光ディスク基板表面の静電気をほぼ完全に除去することができ、塵埃の付着を防止し、後工程の歩留りを向上することのできる光ディスク基板の製造装置を提供する。【構成】本発明は、光学的に情報の記録・再生が行なわれる記録層を有する光ディスク基板の製造装置において、金型2,3から基板4取り出し後、基板4表面の静電除去を第1の静電除去工程(情報面静電除去工程6,レーザ入射面静電除去工程9)と第2の静電除去工程18の2つの工程で行うことを特徴とする。【効果】静電除去を2つの工程に分けて行うことにより、基板表面の帯電量をほぼ完全に除去することができ、塵埃の付着がなくなり、後工程の歩留りを向上することができる。
請求項（抜粋）：
光学的に情報の記録・再生が行なわれる記録層を有する光ディスク基板の製造装置において、金型から基板取り出し後、基板表面の静電除去を第1の静電除去工程と第2の静電除去工程の2つの工程で行なうことを特徴とする光ディスク基板の製造装置。
IPC (4件)：
G11B 7/26 521
, B29C 71/00
, B29D 17/00
, B29L 17:00
