特許

J-GLOBAL ID：200903060428058265

ジアミンの製造法

発明者： 井口 義男
出願人/特許権者： 広栄化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-194739
公開番号（公開出願番号）：特開平5-017413
出願日： 1991年07月09日
公開日（公表日）： 1993年01月26日
要約：

【要約】【構成】 水素化触媒、溶媒、水素及びアンモニアの存在する、所定温度に加熱された反応系内に、【化1】(式中、Aは下記の化3で表される基又はエチリデン基を示す)で表されるジアールのヘミアセタールのアルコール溶液を供給しながら接触還元反応して【化2】(式中、Aは前記に同じ)で表されるジアミンを製造する。【化3】で表される基(式中、nは1又は2を示す)【効果】 ジアールから従来方法に比べて高い収率でジアミンを製造することができる。

請求項（抜粋）：

水素化触媒、溶媒、水素及びアンモニアの存在する、所定温度に加熱された反応系内に、【化1】(式中、Aは下記の化3で表される基又はエチリデン基を示す)で表されるジアールのアルコール溶液を供給しながら接触還元反応することを特徴とする【化2】(式中、Aは前記に同じ)で表されるジアミンの製造法。【化3】で表される基(式中、nは1又は2を示す)

IPC (5件)：

C07C211/09 ,  B01J 23/40 ,  B01J 25/00 ,  C07C209/14 ,  C07B 61/00 300