オキシムスルホネート化合物及びレジスト用酸発生剤

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：阿形明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-254214
公開番号（公開出願番号）：特開平9-095479
出願日： 1995年09月29日
公開日（公表日）： 1997年04月08日
要約：

【要約】【課題】レジストの酸発生剤として用いた場合、露光に使用する活性光に対する透明性が優れ、かつ発生する酸の強度が高く、レジスト溶媒に対する溶解性の良好なオキシムスルホネート化合物を提供することである。【解決手段】一般式【化1】(式中のR1及びR2は非芳香族性炭化水素基又はハロゲン化非芳香族性炭化水素基である)とする。

請求項（抜粋）：