特許

J-GLOBAL ID：200903060428719598

オキシムスルホネート化合物及びレジスト用酸発生剤

発明者： 羽田 英夫 ,  橋口 達也 ,  駒野 博司 ,  中山 寿昌
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-254214
公開番号（公開出願番号）：特開平9-095479
出願日： 1995年09月29日
公開日（公表日）： 1997年04月08日
要約：

【要約】【課題】 レジストの酸発生剤として用いた場合、露光に使用する活性光に対する透明性が優れ、かつ発生する酸の強度が高く、レジスト溶媒に対する溶解性の良好なオキシムスルホネート化合物を提供することである。【解決手段】 一般式【化1】(式中のR1及びR2は非芳香族性炭化水素基又はハロゲン化非芳香族性炭化水素基である)とする。

請求項（抜粋）：

一般式【化1】(式中のR1及びR2は非芳香族性炭化水素基又はハロゲン化非芳香族性炭化水素基である)で表わされるオキシムスルホネート化合物。

IPC (2件)：

C07C309/65 ,  G03F 7/004 503

FI (2件)：

C07C309/65 ,  G03F 7/004 503

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平2-161444
  
• 特開平2-154266
  
• 特開平1-124848
  
• 特開昭60-065072