特許

J-GLOBAL ID：200903060429124679

ネガ型レジスト組成物

発明者： 高須 亮一 ,  宮入 美和 ,  岩下 淳 ,  立川 俊和
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (5件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-042339
公開番号（公開出願番号）：特開2004-252146
出願日： 2003年02月20日
公開日（公表日）： 2004年09月09日
要約：

【課題】アルカリ現像液に対して膨潤しにくいネガ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】放射線の照射により酸を発生する化合物(A)と、酸の作用によりアルカリに対して不溶性に変化する樹脂成分(B)とを含有するアルカリ現像可能なネガ型レジスト組成物であって、前記(B)成分が、(b1)前記(A)成分から発生した酸の作用によりラクトンを形成することにより、アルカリに対して不溶性となる単位、および(b2)アルコール性ヒドロキシ基を有する単位、とを含む樹脂成分であることを特徴とするネガ型レジスト組成物。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

放射線の照射により酸を発生する化合物(A)と、酸の作用によりアルカリに対して不溶性に変化する樹脂成分(B)とを含有するアルカリ現像可能なネガ型レジスト組成物であって、 前記(B)成分が、 (b1)前記(A)成分から発生した酸の作用によりラクトンを形成することにより、アルカリに対して不溶性となる単位、および (b2)アルコール性ヒドロキシ基を有する単位、 とを含む樹脂成分であることを特徴とするネガ型レジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F7/038 ,  C08F8/16 ,  C08F220/28 ,  H01L21/027

FI (4件)：

G03F7/038 601 ,  C08F8/16 ,  C08F220/28 ,  H01L21/30 502R

Fターム (32件)：

2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BD42 ,  2H025BE00 ,  2H025CC03 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL16Q ,  4J100AL29Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA11H ,  4J100BA16P ,  4J100BC07Q ,  4J100BC12P ,  4J100BC53H ,  4J100CA04 ,  4J100CA31 ,  4J100DA38 ,  4J100HA17 ,  4J100HC04 ,  4J100HC69 ,  4J100HC75 ,  4J100JA38