特許

J-GLOBAL ID：200903060435157821

脱臭装置

発明者： 杉山 和己
出願人/特許権者： 杉山製作株式会社
代理人 (1件)： 森 治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-104574
公開番号（公開出願番号）：特開平9-267023
出願日： 1996年04月01日
公開日（公表日）： 1997年10月14日
要約：

【要約】【課題】 有機性廃棄物の処理装置と組み合わせて使用するのに適した、小形で、脱臭能力が高く、かつ、安価な脱臭装置を提供すること。【解決手段】 本体ケーシング40内に、オゾン発生室41と、オゾン発生室41において発生したオゾンと悪臭物質を含むガスとを導入し、内部に配設したスタティックミキサ44a,44bにより均一に混合する混合室43と、混合室43において混合したガスを導入し、スプレーノズル47a,47b,47cから噴霧する水により洗浄するスプレー室46とを区画して形成する。

請求項（抜粋）：

オゾン発生室と、オゾン発生室において発生したオゾンと悪臭物質を含むガスとを導入し、内部に配設したスタティックミキサにより均一に混合する混合室と、混合室において混合したガスを導入し、スプレーノズルから噴霧する水により洗浄するスプレー室とからなることを特徴とする脱臭装置。

IPC (4件)：

B01D 53/38 ,  B01D 53/74 ,  A61L 9/00 ,  A61L 9/015

FI (3件)：

B01D 53/34 116 F ,  A61L 9/00 Z ,  A61L 9/015

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭49-063651
  
• 特開昭60-153922