特許
J-GLOBAL ID：200903060448786054
ホログラム転写箔
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-010754
公開番号（公開出願番号）：特開2000-272295
出願日： 2000年01月19日
公開日（公表日）： 2000年10月03日
要約：
【要約】【課題】 箔切れが容易かつ良好で工程上安定にホログラムを転写することができるホログラム転写箔を提供すること。【解決手段】 基材フィルム上に転写層としてホログラム形成層、感熱性接着剤層が順次積層されてなるホログラム転写箔において、ホログラム形成層は、その25°Cにおける破断点伸度が0.5〜15%、および120°Cにおける破断点伸度が0.5〜30%であることを特徴とするホログラム転写箔。
請求項（抜粋）：
基材フィルムと、前記基材フィルム上に形成されたホログラム形成層と、前記ホログラム形成層上に形成された感熱性接着剤層とを含んでなるホログラム転写箔において、前記ホログラム形成層は、その25°Cにおける破断点伸度が0.5〜15%、および120°Cにおける破断点伸度が0.5〜30%であることを特徴とする、ホログラム転写箔。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
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