特許
J-GLOBAL ID：200903060455284404
微小円形パターンの形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志村 浩
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-157823
公開番号（公開出願番号）：特開平6-349697
出願日： 1993年06月03日
公開日（公表日）： 1994年12月22日
要約：
【要約】【目的】 1μm以下の微小円形パターンを形成することができる新規な方法を提供する。【構成】 ガラス基板10の上に、厚み1μm程度のポジ型レジスト層を形成する。直径5μm程度のCr円形パターン40が形成されたガラス製のマスク板30を、このレジスト層に密着させて露光すると、円形パターン40に対応する円形の輪郭をもった境界線により、露光部分21と非露光部分22とが形成される。このとき、基板10上面における散乱光の回り込み現象により、非露光部分22の中心部に、直径0.5μm程度の微小露光部分23が生じる。この微小露光部分23が、目的とする微小円形パターンである。
請求項（抜粋）：
基板上の感光層に微小な円形パターンを形成する方法であって、形成すべき円形パターンの直径よりも大きな直径をもつ円形パターンが形成されたマスク板を用意し、このマスク板を前記感光層の表面に密着させ、このマスク板を通して前記感光層への露光を行うようにしたことを特徴とする微小円形パターンの形成方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20
, H01L 21/302
