特許
J-GLOBAL ID：200903060459612775
感放射線性樹脂組成物、パターン状樹脂膜を有する基板の製造方法、及び該樹脂組成物の利用
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西川 繁明
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2003006599
公開番号（公開出願番号）：WO2003-100524
出願日： 2003年05月27日
公開日（公表日）： 2003年12月04日
要約：
脂環式オレフィン樹脂、酸発生剤、架橋剤、特定の構造を有するフェノール化合物、及び溶剤を含有し、低誘電率で、透明性、耐熱変色性、解像度、残膜率、パターン形状などに優れた樹脂膜を与えることができる感放射線性樹脂組成物。該感放射線性樹脂組成物を用いて、パターン状の樹脂膜を有する基板を製造する方法。
請求項（抜粋）：
(A)脂環式オレフィン樹脂、
(B)酸発生剤、
(C)架橋剤、
(D)下記式(1)
IPC (6件)：
G03F7/004
, G03F7/022
, G03F7/033
, G03F7/038
, G03F7/039
, H01L21/027
G03F7/004 501
, G03F7/022
, G03F7/033
, G03F7/038 601
, G03F7/039 501
, H01L21/30 502R
