特許
J-GLOBAL ID：200903060468249535
乾燥装置、乾燥装置集合体及び乾燥方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩原 誠
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP1999002102
公開番号（公開出願番号）：WO2000-006961
出願日： 1999年04月20日
公開日（公表日）： 2000年02月10日
要約：
【要約】乾燥装置は、金属表面2を備える遠赤外線放射層3から被乾燥物体の乾燥に最適な遠赤外線を放射するように調節された遠赤外線放射体1、15と、該遠赤外線放射体から放射される遠赤外線を被乾燥物体に向けて放射して乾燥させるための乾燥室12と、被乾燥物体と前記遠赤外線放射体との距離を可変するための昇降装置20と、前記遠赤外線放射体から発生する熱によって昇温される温風を循環するための温風循環閉経路17と、前記乾燥室に向かって温風をダウンフローするためのプレナム室18とを備える。乾燥室内の温度、遠赤外線放射の放射時間、遠赤外線放射体の表面温度、遠赤外線放射体と被乾燥物体との距離は、基板が変形しないで優れた乾燥状態が得られるように制御される。
請求項（抜粋）：
被乾燥物体の乾燥に最適な遠赤外線を放射する遠赤外線放射体と、前記遠赤外線放射体から放射される遠赤外線を被乾燥物体に向けて放射して被乾燥物体を乾燥させるための乾燥室と、温風を前記乾燥室に向けてダウンフローするためのプレナム室と、前記遠赤外線放射体を複数個取付け、かつ前記プレナム室からダウンフローして流れる温風を前記乾燥室に向けて噴出するための開口を備える枠体と、被乾燥物体と前記遠赤外線放射体との距離を可変するための昇降装置と、前記遠赤外線放射体から発生する熱によって昇温される温風を循環するための温風循環閉経路と、乾燥室内の温度、遠赤外線放射の放射時間、遠赤外線放射体の表面温度、遠赤外線放射体と被乾燥物体との距離を制御するための制御装置と、を備える乾燥装置。
IPC (1件)：
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