特許

J-GLOBAL ID：200903060475994181

ハーフトーン方式位相シフトマスク及びレジスト露光方法

発明者： 上澤 史且
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 山本 孝久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-166078
公開番号（公開出願番号）：特開平8-015851
出願日： 1994年06月24日
公開日（公表日）： 1996年01月19日
要約：

【要約】【目的】サブピークの発生を抑制することができ、しかも高い位相シフト効果を有するハーフトーン方式位相シフトマスクを提供することにある。また、本発明の目的は、かかるハーフトーン方式位相シフトマスクを用いたレジスト露光方法を提供する。【構成】ハーフトーン方式位相シフトマスクは、光透過領域と半遮光領域から成り、光透過領域を通過する光と半遮光領域を通過する光の位相差が180度ではないことを特徴とする。光の位相差は100度乃至130度であることが望ましい。レジスト露光方法は、光透過領域と半遮光領域から成り、光透過領域を通過する光と半遮光領域を通過する光の位相差が180度ではないハーフトーン方式位相シフトマスクを用いて、基板上に形成されたレジスト材料を露光する。

請求項（抜粋）：

光透過領域と半遮光領域から成り、光透過領域を通過する光と半遮光領域を通過する光の位相差が180度ではないことを特徴とするハーフトーン方式位相シフトマスク。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 514 C ,  H01L 21/30 528