レジスト現像方法および装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-247709
公開番号（公開出願番号）：特開平7-106226
出願日： 1993年10月04日
公開日（公表日）： 1995年04月21日
要約：

【要約】【構成】水を滴下する機構と、水より表面張力が小さく且つ乾燥により完全に揮発させることができる液体を滴下する機構からなる現像液のリンス機構を有する。【効果】レジストパターン、特に密集した微細なレジストパターンやアスペクト比の高いレジストパターンのパターン倒れを防止できる。

請求項（抜粋）：

レジスト膜に所望のパターンを露光し、その後、現像及びリンスを行った後、リンス液を乾燥させて所望のレジストパターンを形成するレジスト現像方法において、水によるリンスを行う工程と、前記水を乾かすことなく水より表面張力が小さく乾燥時に完全に揮発するリンス液に置換する工程と、前記リンス液を乾燥させる工程を順次行うことを特徴とするレジスト現像方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/30

FI (3件)：

H01L 21/30 569 F , H01L 21/30 569 E , H01L 21/30 569 C

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