特許
J-GLOBAL ID:200903060478312057
平版印刷版用原版の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
萩野 平 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-254511
公開番号(公開出願番号):特開2001-083693
出願日: 1999年09月08日
公開日(公表日): 2001年03月30日
要約:
【要約】【課題】従来と同じ材質及び精度の平版印刷用部材版上にSi3N4の層を設けることが可能であり、像様露光された後の現像を必要とせず、異なった波長のレーザー照射により親疎水性を示す素材の層を有する平版印刷用部材、特には平版印刷用原版の製造方法を提供する。【解決手段】Siを含有する化合物を気相中で反応させてSi含有無機化合物を生成させ、生成したSi含有無機化合物の薄膜層を支持体表面に形成する平版印刷版用原版の製造方法。
請求項(抜粋):
Siを含有する化合物を気相中で反応させてSi含有無機化合物を生成させ、生成したSi含有無機化合物の薄膜層を支持体表面に形成することを特徴とする平版印刷版用原版の製造方法。
IPC (5件):
G03F 7/00 503
, B41N 1/14
, G03F 7/004 521
, G03F 7/075 501
, G03F 7/11 503
FI (5件):
G03F 7/00 503
, B41N 1/14
, G03F 7/004 521
, G03F 7/075 501
, G03F 7/11 503
Fターム (25件):
2H025AA00
, 2H025AB03
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025BB03
, 2H025BH03
, 2H025EA06
, 2H025FA03
, 2H096AA07
, 2H096AA08
, 2H096BA13
, 2H096BA20
, 2H096EA04
, 2H114AA04
, 2H114AA23
, 2H114AA27
, 2H114BA01
, 2H114BA10
, 2H114DA10
, 2H114DA14
, 2H114EA01
, 2H114GA01
, 2H114GA29
, 2H114GA33
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