特許
J-GLOBAL ID：200903060495782083
指紋識別装置及び照合方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 彰芳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-127686
公開番号（公開出願番号）：特開平7-110860
出願日： 1993年04月21日
公開日（公表日）： 1995年04月25日
要約：
【要約】【目的】 高い認識率を維持しながら高速で、低コストで小型の指紋照合装置を提供する。【構成】 登録指紋データと照合(入力)指紋データとの比較に於て、各種アクセス、入退出管理を行うコンピュータ制御の指紋識別装置であって、従来問題とされてきた極端な乾燥指に於ても、高コントラストが得られる様なヒストグラム平坦化前処理(自動コントラスト制御)を内蔵し、長処理時間が欠点とされてきた。細線化も独自の高速、高精度アルゴリズムを具備し、特徴点を抽出しそれらの位置、種類、方向等により本人、他人と判断し、かつ、登録データに関してキズ等の経時変化を自動的に調整してゆく機能を有し、かつ、プリズム面の汚れ等を検出する機能を有した複合指紋識別装置である。
請求項（抜粋）：
ソフトウエアーにより、自動コントラスト制御で得られた登録指紋データと入力指紋データを処理して認識照合する方法に於て、登録指紋の隆線方向パターンと同曲率パターンと入力指紋の隆線方向パターンと同曲率パターンとを比較し、位置合わせを行い、重なった領域の隆線方向と曲率パターンの一致度を計算し、上位しきい値以上の場合は本人と判断し、下位しきい値未満の場合は他人と判断し、処理を速やかに終了し(一次照合)一致度が下位しきい値以上上位しきい値未満である場合は、重なった領域内で登録データの特徴点高密度領域、中密度領域と一致する入力データ内領域だけの細線化、精選化を行い、特徴点を抽出し、それらの位置、種類、方向の一致度を計算し、高密度領域内で一致度が上位しきい値以上で本人、下位しきい値未満で他人と判定し、下位しきい値以上上位しきい値未満で他人と判定し、下位しきい値以上上位しきい値未満で、中密度領域内で一致度がしきい値以上で本人、末満で他人と判定(二次、三次照合)する事を特徴とする複合指紋照合方法。
引用特許：
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