特許
J-GLOBAL ID：200903060503272472
剥離剤組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
塩出 真一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-109323
公開番号（公開出願番号）：特開平5-281753
出願日： 1992年04月02日
公開日（公表日）： 1993年10月29日
要約：
【要約】【構成】 アルカノールアミン化合物、スルホン化合物又はスルホキシド化合物、及びヒドロキシ化合物からなる、フォトレジスト剥離剤組成物。【効果】 フォトレジストの剥離、安全性及び作業性に優れ、また、金属膜を有する基板に対しても腐食を起こさない。
請求項（抜粋）：
基板上に塗布されたフォトレジスト膜を剥離するための剥離剤組成物において、(a) 一般式 H3-n N((CH2 )m OH)n (ただし、mは2又は3の数を示し、nは1、2又は3の数を示す。)で表されるアルカノールアミン化合物、(b) 一般式 R1 -SO2 -R2 又はR1 -SO-R2 (ただし、R1 及びR2 はそれぞれ独立に炭素数1もしくは2のアルキル基、又は相互に結合して形成する炭素数4、5もしくは6の環状アルキレン基を示す。)で表されるスルホン化合物又はスルホキシド化合物、及び(c) 一般式 C6 H6-n (OH)n (ただし、n=1、2又は3)又はC6 H6-m-n (OH)n Rm (ただし、n=1、2、又は3、m=1又は2で、環状アルキレン基にヒドロキシ基及びアルキル基又はアルコキシ基が付加されたもの。)で表されるヒドロキシ化合物、からなることを特徴とする剥離剤組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/42
, H01L 21/027
, H05K 3/06
