特許
J-GLOBAL ID：200903060504734429
外観検査装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松浦 憲三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-114782
公開番号（公開出願番号）：特開平11-304454
出願日： 1998年04月24日
公開日（公表日）： 1999年11月05日
要約：
【要約】【課題】装置の処理負担の低減と処理速度の高速化を図ると共に、高精度の欠陥検査を可能にする外観検査装置を提供する。【解決手段】半導体ウェーハ等の被検査物上に配列された同一パターンからなる複数の領域の画像をTDIセンサ20によって各領域毎に取得し、イメージ記憶部52に記憶する。そして、複数の領域のうちの2つの領域を1組にして各組の領域毎に画像をイメージ比較部54によって比較して欠陥が生じている領域の組を検出する。この結果、欠陥が検出された組の領域の画像のみを再度CPU56によって他の組の領域の画像と比較し、前記欠陥が検出された組の領域のうち欠陥が生じている領域を判定する。
請求項（抜粋）：
同一パターンが配列された被検査物の複数の領域の画像を撮像手段によって各領域毎に取得し、該取得した各領域毎の画像を比較して被検査物の欠陥を検出する外観検査装置において、前記複数の領域のうちの2つの領域を1組にして各組の領域毎に画像を比較して欠陥が生じている領域の組を検出する第1の画像比較手段と、前記第1の画像比較手段によって欠陥が検出された組の領域の画像を他の組の領域の画像と比較し、前記欠陥が検出された組の領域のうちいずれの領域に欠陥が生じているかを判定する第2の画像比較手段と、からなることを特徴とする外観検査装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01B 11/30 D
, G01N 21/88 E
